芯片制造集成電路核心裝備CMP沙盤模型
CMP設備,也叫化學機械拋光設備,是集成電路制造領域的關鍵設備之一。它的原理是利用拋光液化學刻蝕和拋光墊機械摩擦的綜合平衡作用,對晶圓表面材料進行精細去除。
芯片制造集成電路核心裝備CMP沙盤模型
芯片制造集成電路核心裝備CMP沙盤模型
在集成電路制造中,CMP首先被用于芯片制造前道工藝的平坦化、器件隔離、器件構造,其次在芯片制造后道工藝的金屬互連也需使用。同時,CMP在集成電路3D封裝TSV工藝中也是關鍵的工藝手段。正是因為具有相對多樣且關鍵的應用,CMP已經成為集成電路制造中的標準工藝和核心裝備。